淄博ICP電感耦合光譜儀廠家

產(chǎn)品簡介：淄博ICP電感耦合光譜儀廠家簡要描述：國產(chǎn)ICP光譜儀價(jià)格是我公司新一代的光譜儀產(chǎn)品，具有全自動(dòng)點(diǎn)火開關(guān)功能和多重保護(hù)措施，更易操作，更加安全，我公司生產(chǎn)的等離子體發(fā)射光譜儀具有檢測范圍寬，檢測下限低。

更新時(shí)間：2024-03-26

產(chǎn)品型號：ICP-9002

產(chǎn)品產(chǎn)地：山東

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詳情介紹

品牌	精測	價(jià)格區(qū)間	面議
儀器種類	順序掃描	應(yīng)用領(lǐng)域	環(huán)保,電子,冶金,電氣,綜合

淄博ICP電感耦合光譜儀廠家

ICP光譜分析儀的專業(yè)制造廠商。它是集科研、生產(chǎn)、銷售、技術(shù)服務(wù)于一體的高科技企業(yè)。HK-8100型ICP光譜分析儀，是我公司在現(xiàn)有技術(shù)的基礎(chǔ)上，吸收新技術(shù)成果研制開發(fā)的最新產(chǎn)品。

ICP光譜分析儀（ICP-AES/OES），主要用于微量/痕量元素的分析，可分析的元素為大多數(shù)的金屬和硅，磷等少量的非金屬，共72種。廣泛應(yīng)用于稀土、貴金屬、合金材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質(zhì)、石油、化工、商檢、環(huán)保以及釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等行業(yè)分析檢測，可對待測樣品進(jìn)行定性或從超微量到常量的定量分析。

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光柵刻線		光柵：2400刻線	光柵：3600刻線	光柵：4320刻線
波長	范圍	190nm-800nm	190nm-500nm	190nm-420nm
	示值誤差	±0.03nm	±0.03nm	±0.03nm
	重復(fù)性	≦0.005nm	≦0.005nm	≦0.005nm
光譜帶寬		Mn 257.610nm	Mn 257.610nm	Mn 257.610nm
光譜帶寬		半高寬≦0.030nm	半高寬≦0.015nm	半高寬≦0.007nm
檢出限/(ug/L)		Zn(213.856nm)≦ 3.0	Zn(213.856nm)≦ 3.0	Zn(213.856nm)≦ 3.0
		Ni(231.604nm)≦ 10.0	Ni(231.604nm)≦ 10.0	Ni(231.604nm)≦ 10.0
		Mn(257.610nm）≦ 2.0	Mn(257.610nm）≦ 2.0	Mn(257.610nm）≦ 2.0
		Cr(267.716nm)≦ 7.0	Cr(267.716nm)≦ 7.0	Cr(267.716nm)≦ 7.0
		Cu(324.754nm)≦ 7.0	Cu(324.754nm)≦ 7.0	Cu(324.754nm)≦ 7.0
		Ba(455.403nm）≦ 1.0	Ba(455.403nm）≦ 1.0	Ba(455.403nm）≦ 1.0
重復(fù)性		3號溶液 RSD≤1.5%	3號溶液 RSD≤1.5（%）	3號溶液 RSD≤1.5（%））
穩(wěn)定性		3號溶液 RSD≤2%	3號溶液 RSD≤2%	3號溶液 RSD≤2%

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